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國內(nèi)半導體行業(yè)設備需求增加,拓荊科技去年凈利預計最多增近5倍

拓荊科技 視覺中國 資料圖
1月29日,國內(nèi)半導體專用設備廠商拓荊科技股份有限公司(下稱“拓荊科技”,688072)公告披露2022年年度業(yè)績,經(jīng)財務部門初步測算,預計公司2022年年度實現(xiàn)營業(yè)收入16.50億元至17.20億元,與上年同期相比(同比)增加 8.92億元至9.62億元,同比增長117.69%至126.92%。
公告稱,預計公司2022年年度實現(xiàn)歸屬于母公司所有者的凈利潤為3.30億元至4.00億元,同比增加2.62億元至3.32億元,同比增長381.85%至484.06%。
經(jīng)財務部門初步測算,拓荊科技預計2022年年度實現(xiàn)歸屬于母公司所有者扣除非經(jīng)常性損益后凈利潤為1.60億元至1.90億元,與上年同期相比實現(xiàn)扭虧為盈,同比增加2.42億元至2.72億元。
拓荊科技稱,公司預計2022年年度業(yè)績較上年同期大幅增長,其主要原因為:受益于國內(nèi)半導體行業(yè)良好的發(fā)展態(tài)勢,國內(nèi)半導體行業(yè)設備需求增加,同時公司繼續(xù)加大產(chǎn)品研發(fā)投入,產(chǎn)品結(jié)構(gòu)不斷優(yōu)化,產(chǎn)品競爭力持續(xù)增強,進一步拓展客戶群體,本年銷售訂單大幅增加,營業(yè)收入維持高增長趨勢。
此外,拓荊科技稱,在公司持續(xù)加大研發(fā)投入的情況下,期間費用率有所下降,規(guī)模效應驅(qū)動公司盈利水平提高,歸屬于上市公司股東的凈利潤和歸屬于上市公司股東的扣除非經(jīng)常性損益的凈利潤同比有較大幅度提升。
拓荊科技成立于2010年4月,總部位于沈陽市渾南區(qū),是國家高新技術企業(yè),主要從事高端半導體專用設備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與技術服務。公司聚焦研發(fā)和生產(chǎn)半導體薄膜沉積設備,該設備與光刻機、刻蝕機共同構(gòu)成芯片制造三大主設備。
據(jù)官網(wǎng)介紹,該公司在北京、上海、海寧、美國成立四家子公司,產(chǎn)品已進入北京、上海、武漢、合肥、天津、中國臺灣等20多個地區(qū)的60條生產(chǎn)線。主要產(chǎn)品包括等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備、原子層沉積(ALD)設備和次常壓化學氣相沉積(SACVD)設備三個產(chǎn)品系列,擁有自主知識產(chǎn)權,技術指標達到國際同類產(chǎn)品先進水平,公司產(chǎn)品已廣泛應用于集成電路晶圓制造,以及TSV封裝、光波導、Micro-LED、OLED顯示等高端技術領域。
2022年4月,拓荊科技正式登陸科創(chuàng)板。自上市以來,該公司股價已累計上漲近260%。





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